1、在計(jì)算機(jī)屏蔽機(jī)房中，如何計(jì)算屏蔽電磁波的衰減？

針對(duì)屏蔽體表面來說，其反射衰減不僅僅與屏蔽材料的表面阻抗相關(guān)，同時(shí)還與波阻抗和屏蔽體與輻射源之間的距離相關(guān)，而波阻抗，又與輻射源的類型相關(guān)，所以，可以得到以下的計(jì)算公式，為：

針對(duì)低阻抗源，也就是磁場(chǎng)源來說，

R=20log10{[1.173(ur/fqr)/D]+0.0535D(fqr/ur)?+0.354}db；

其中：D為點(diǎn)源與屏蔽體之間的距離，單位為cm。

針對(duì)平面波輻射源來說，

R=168-10log10(fur/qr)db；

針對(duì)高阻抗源，也就是電場(chǎng)源來說，

R=362-20log10[(urf3/qr)?D]db。

但在實(shí)際中，反射衰減和吸收衰減并不能徹底衰減完，所以還是會(huì)有剩余的能量，它會(huì)形成內(nèi)部反射，也叫內(nèi)部衰減，通常是用A來表示，一般是大于15db，可以不考慮。但是，如果屏蔽材料比較薄，且A值比較小時(shí)，就需要考慮了，其公式為：

B=20log10|1-W-A/10(COSO.23A-jsim0.23A)|db；

W=4(1-M2)2-2M2-J23/2M(1-M2)/[1+(1+21/2 M)2]2；

M=0.3015D(fqr/ur)1/2。

特別注意：針對(duì)低頻阻抗來說，這不適用。

2、如果機(jī)房停電了，我們應(yīng)如何處理？

首先關(guān)閉各系統(tǒng)和設(shè)備，直接關(guān)閉網(wǎng)絡(luò)設(shè)備和監(jiān)控設(shè)備，對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行導(dǎo)出備份處理，等到供電恢復(fù)后，開啟各設(shè)備。

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